日月光推出颠覆性FOCoS-Bridge封装技术:电阻大幅降低72%
5月29日消息,日月光ASE昨日发布了一项全新的先进封装技术——FOCoS-Bridge with TSV硅通孔。相比之前的FOCoS-Bridge,这项新技术通过引入TSV硅通孔,能够提供更短的信号传输路径,从而实现更高的I/O密度以及更优的散热性能,更好地满足市场对不断提升的带宽需求。
注意到,FOCoS-Bridge作为日月光VIPack平台的关键技术之一,通过在扇出型 redistribution 层内集成微型硅桥,实现了xPU与HBM之间的封装内互联。这一方案与台积电的CoWoS-L、英特尔的EMIB技术有着相似的应用场景和优势。
TSV桥接芯片通过引入传统的横向信号连接方式,在FOCoS-Bridge封装系统中显著优化了电力传输的垂直路径长度。这一创新设计使得FOCoS-Bridge TSV相较于原始版本,在电阻和电感方面分别实现了72%和50%的降低。这种技术进步不仅提升了整体系统的效率,还为未来的高性能计算设备提供了更为可靠的能源支持。在我看来,这种技术创新标志着半导体封装领域的一个重要里程碑,它不仅解决了传统方案中的瓶颈问题,还为行业树立了新的性能标杆。随着这类技术的不断成熟,我们有理由期待更多突破性成果在未来涌现。
日月光研发处长李德章表示:
高性能计算和人工智能的快速发展对高算力的需求不断攀升,日月光推出的FOCoS-Bridge能够实现SoC与Chiplets以及HBM的高效集成。通过使用TSV技术,FOCoS-Bridge不仅提升了计算性能和能效,还进一步推动了先进封装技术的进步。